这家公司在艾斯巴国，它原本是一家芯片制作商，十几年前电子巨头菲利普与之合作，成立了新的部门，开发光刻系统和机器。
光刻技术出现在上世纪50年代，山姆国贝尔实验室的两位工程师尝试把线路图“打印”到硅晶片上，使之产生更精细、更复杂的设计。
大致方法是先制版，通常采用石英玻璃板和铬板的复合材料制作底板，用电子束或镭束在上面刻画集成线路，做成光掩模。
然后，硅片上涂上光敏涂层，将光掩模上的图案曝光在硅片涂层上，接着通过化学蚀刻的办法，完成集成线路的“打印”。
光掩模相当于底板，这么反复操作就能够大量制作印刷上集成线路的硅片。
1961年，山姆国gca公司的david w. mann部门，制造出第一台步进式光刻机，售价30000刀，精度1微米。
1984年，阿斯麦成立，当时蓝星大概有10家光刻机制造商，那时这个行业的老大是gca，阿斯麦倒数第一。
到80年代末，蓝星活着的光刻机企业只剩下5家，包括太阳国的尼康、佳能，山姆国的gca、svg。
阿斯麦排第四位。
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