年实现了65纳米。
此时全球光刻机巨头尼康、佳能、阿斯麦以及已经被阿斯麦和安美森收购的svg，都在执着于用157纳米波长的光源，在“干式”光刻技术上寻求突破。
阿斯麦和svg加入的euvllc联盟，对极紫外光源有了一定的研究成果，但这种波长只有13.5纳米的光源真正用到光刻机上还有一个漫长的过程。
业内人士坚持认为，在光刻技术“摩尔定律”上，157纳米的光源、“干式”光刻技术，就是唯一的赛道。
而林古峰不这么认为，特别是在安美森和阿斯麦联合收购了svg后，林谷峰亲自跟进了光源项目研究小组的进度，更加感到157纳米波长的光，不适用于光刻领域。
林谷峰跟陈立东解释说：“因为空气中的氧气会吸收157纳米的光，所以光经过的整个路径必须只有惰性气体，现在只能用氮气。
氮气的成本很高，而且如果意外漏出太多氮气会致命的。
我算了一下，157纳米只比193纳米短23％，换句话说，只能把解析度提高23％。
用193纳米加水可以提高46％，几乎是两倍，因为波长只在水中变短为132纳米。