的光刻机技术是不是被欧洲一家什么公司给垄断了？”，江辉插话道。
前世，光刻机的问题也曾经一度在互联网上吵的沸沸扬扬，江辉多多少少都听说过相关的一些信息，只不过记不住具体的详细内容了。
“是的，世界上最先进的光刻机厂家就是ASML，估计不用多久，是荷兰飞利浦公司的半导体部门拆分出来的独立公司，主要股东是飞利浦，但三星，台积电和英特尔都占有股份。”
“ASML为半导体生产商提供光刻机及相关服务，TINS系列是目前世界上精度最高，生产效率最高，应用最为广泛的高端光刻机型。目前全球绝大多数半导体生产厂商，都向ASML采购TINS机型，例如英特尔，三星，台积电，中芯国际等”，朱正峰继续介绍道。
“除了目前致力于开发的TINS平台外，ASML还在积极与IMEbsp;IBM等半导体公司合作，开发下一代光刻技术，比如EUV（极紫外线光刻），用于关键尺度在22纳米甚至更低的集成电路制造。
同时，基于传统TINS平台的双重曝光等新兴技术，也在进一步成熟和研发过程当中。去年末三星宣布成功生产的36纳米闪存，基于的便是双重曝光技术。”