镜头是三阳光学公司生产供给的，也采用了步进扫描沉浸式技巧，由于应用了沉浸式技巧，这种波长在365纳米的光源蓝本极限制程只能达到0.25微米，但是现在可以提升到了120纳米，而且价格只有一千美金！
现在市场上尼康、佳能、艾斯摩尔三家主力都是以氟化氪激光光源为主，极限制程工艺在130纳米，高真个机型是以氟化氩激光光源的光刻机，极限制程工艺在65纳米。
现在瑞星科技公司氟化氪激光光源光刻机极限制程工艺可以达到90纳米，这还是由于工件台的进度不够导致的，假如能把工件台的运动精度把持在2纳米，那么制程工艺可以达到70纳米左右！
瑞星科技公司在控制沉浸式光刻技巧后简直像是一头蛮横的公牛闯进了瓷器店一般，将这个蓝本只有三家瓜分的光刻机市场是搅得天翻地覆！
往年十月份瑞星科技公司推出的pas系列机型销售情况十分好，到现在总共是卖出往了五十多台，而且差未几有一大半是海外的客户，而采用氟化氪激光光源的xt系列也是卖出往了三台。
倒不是瑞星科技公司不想卖，而是德国蔡司供给的镜组就只有十几套，剩下的都要留给中晶微和华越电子公司以及华晶团体，