有什么重大的成就。
x射线掩模的基本结构包括薄膜、吸收体、框架、衬底，其中薄膜衬基材料一般使用硅、碳化硅、金刚石，吸收体主要使用金、钨等材料。
要能够使x射线以及其他光线的有效透过，且保障其有足够的机械强度，具有高的x射线的吸收性，且要足够厚，保障其高宽比的量，且其要有高度的分辨率以及反差，对于其掩模的尺寸要保障其精度，要没有缺陷或者缺陷较少。
另外还要研发特殊的光刻胶，难度比华兴集团公司研制极紫外光光刻胶的难度还要大。
所以这项技术只能是作为预研，现阶段根本没有实现的可能。
至于一些研发机构进行研究的纳米压印光刻技术，主要包括热压印、紫外压印以及微接触印刷，这个技术原理就跟盖章一样，采用高分辨率电子束等方法将结构复杂的纳米结构图案制在印章上,然后用预先图案化的印章使聚合物材料变形而在聚合物上形成结构图案。
不过这种技术也是受限于现阶段设备制造技术和化学材料技术，就算是用这种技术也需要极为精密的电子束设备在碳化硅材料上进行刻蚀图案，还要研发涂敷在晶圆上的不同聚合物，工艺也并不简单，也需要大量的厂商进行合