正文 第二百一十九章 华国半导体崛起元年(2/10)

    回想着他脑海中那个光刻机的模型，他忽然觉得，自己找到了一个可行的优化方案。

    优化一个科技产品，应当从控制变量去分析！

    而光刻机的变量有哪些？

    光路、反射透镜、光源……等等。

    他之前一直纠结的问题，就和这些东西有关，光刻机因为需要在纳米级数上进行雕刻，所以对于这些东西的精准性也有要求，同样也得达到纳米级别，这就需要提到一个重要的零部件，也就是伺服电机，伺服电机是能够控制机械元件运转的发动机，但是华国在这上面仍然和国外有所差距。

    所以他一直思考的是，该怎么造出精准性同样能够达到那种纳米级别的伺服电机。

    这又需要一个国家工业技术的深度，而不是广度了，这也是华国工业的弊端，广度有了，但深度还不够。

    伺服电机的精度，绝对是一个最关键的深度评判标准。

    光刻机需要它，被称为工业母机的机床也需要它。

    但因为在基础材料方面研究的不行，华国伺服电机精度并不高。

    那么，这就是林晓需要控制的变量了。

    将这个变量控制好，光刻机的许多问题都将迎刃而解