地了不起。
但当江凡真正亮出要做的东西并加以确认时，纵使是他这个和芯片打了一辈子交道的半导体教父元老都惊诧了。
跳过3纳米，直奔2纳米，普通人连设想都不敢这么设想的，但人家却已经把技术资料都摆在眼前了。
赶超，竟来的如此之快吗？这可是自己一辈子都没有完成的事啊。
张汝金心中有些激动，但他作为一个严谨的工程师，还是急切地想要看看里面实际的内容。
在众人期盼的目光中，江凡打开了资料，他来之前已经找青年人要了微电子技术、微机电系统、集成电路设计等芯片相关2030年左右知识体系的知识贴片，所以讲解起来也毫不费劲。
他做了整体概述性的讲解，并对其中一些核心技术做了深度的一些解读。
就比如光源这块，asml（阿斯麦）的euv光刻机是世界上最牛的光刻机，其光源来自xymer，波长为13.5nm。
但是这13.5nm其实是从193nm多次反射得到的，简单来说，就是用250w功率的二氧化碳激光去轰击滴落下来的金属锡液滴，连续轰击两次后，就能加热并激发出euv等离子体，从而获得波长更短的光。