源照射破坏的镀膜材料已经可以承受住波长在25纳米极紫外光光源照射的反射镜镜头装置，不过这次瑞星科技公司并没有使用25纳米的深紫外光源，因为华兴科技集团公司的半导体材料公司这两年研制出来的光刻胶才能承受住35纳米的深紫外光的辐射损伤。
为了攻克这些世界级的难题，三阳光学公司这些年技术团队那是没日没夜地用时间和不断地实验改进材料和加工工艺一点点地将这些硬骨头给啃下来的。
尽管艾斯摩尔公司可以得到米国国内最好的极紫外光刻机需要的最好光源和计算光刻等方面的应用服务，而且提前两年推出了极紫外光刻机的原型机，但是瑞星科技公司公司却是上下一心，硬是靠着砸钱砸人砸时间将极紫外光刻机研发样机开始投入正式地开始投入实用化。
去年的时候艾斯摩尔公司才推出了第一台研发用的样机。
何玉光在介绍完光源系统和镜头组后说道：“这次我们推出的新型双工件台也是使用了不少的新技术，使用了更高精度的测温传感器和新的冷却系统，可以将工件台内部稳定控制在千分之五度以内，另外也是使用了新型的磁悬浮轴承系统和高精度的激光测距定位系统，保证工件台的同步精度可以做到2纳米以内，让对