随着国际政治环境的变化，共和国引进之门被巴统禁运彻底关上。
蔡俊杰正开发的掩模技术直接影响着掩膜版的质量，而光掩模版的质量优劣不仅仅直接影响着光刻工艺的质量，还影响着半导体器件或集成电路的电学性能、可靠性和芯片成品率。
不如说佟若愚之前说的3微米工艺芯片的良率从59%有希望提高到70%以上，就是因为如此。
芯片成品率随着掩模版的缺陷密度的增大而按负指数关系急剧下降。据推算，若要达到95%以上的成品率，掩模版的缺陷密度必须控制在每平方厘米0.175 个以下。如果缺陷密度增大到每平方厘米1.25个，则成品率因缺陷的直接影响会下降到65%以下。因此，根据佟若愚的说法，此时蔡俊杰的掩膜版技术应该是取得了突破。
而这个突破是余子贤非常看重的，就凭这个技术，这个厂子收购下来都值了，余子贤可不打算一直在3微米左右混。4英寸的晶圆最小可以加工1.2微米工艺的芯片。余子贤希望在收购回来的1-2年来达到这个标准。
共和国此时打算上马的908工程，因为各种原因，可是到98年才打到0.9微米的，国内其他合作项目也是在1995年才跨国1微米的